杭州璞璘科技（Prinano）近日通过官方微信公众号晓谕，与深圳力策科技结合接受自主研发的真空气压式纳米压印决议，兑现8英寸光芯片可边界化量产考据。
据报说念，该本事齐备绕开传统深紫外（DUV）光刻道路，将光芯片制形资本压缩至DUV决议的荒谬之一，为受ASML光刻机出口截至的中国芯片产业带来了新的晨曦。
这次量产松懈的中枢是璞璘科技自主研发的PL-AS真空气压式晶圆级纳米压印光刻拓荒，配合定制化双层压印胶材料体系与中枢工艺，通盘坐褥历程无需使用ASML的DUV光刻机。
不同于行业主流的辊压和佳能喷墨步进式道路，该拓荒接受“空气垫”式面构兵压印旨趣，能将晶圆整面压力均匀性缝隙适度在0.5%以内，残余层厚度偏差小于2nm，同期撑握硬质与柔性模板，线宽阔别率可达10nm以下。
比拟辊压的线构兵方式，气压式绝对惩办了压印均匀性不及的问题；而对比佳能的步进式工艺，其全域一次压印的成果更符合光芯片的大边界坐褥。
更重要的是，纳米压印本事兑现了跨圭臬微纳结构的一次成型。传统DUV光刻制造光芯窄小，靠近从几十纳米到数微米的复杂结构需要多说念工艺和多台拓荒配合，澳门威尼斯官网而纳米压印只需将整个结构制作在吞并派模板上，一次压印即可完成复刻，大幅镌汰了坐褥周期并驳斥了良率损耗。
当今，该本事已在多个光芯片边界兑现量产考据，这些光芯片庸碌讹诈于光通讯、传感和激光雷达边界。
不外，行业关于纳米压印本事的履行价值仍存在庸碌争议。《南华早报》指出，该本事在量产边界、良率以及非光子芯片边界的适用性尚未获得充分考据。
商讨机构SemiAnalysis暗意，尽管纳米压印拓荒自己资本更低，但其履行资本上风取决于产能、模板坐褥、弱势率和工艺集成水平，短期内难以替代DUV和EUV在先进逻辑芯片制造中的主导地位。璞璘科技也未流露具体的坐褥良率、出货量、客户订单及落寞考据数据，其买卖化边界仍有待进一步不雅察。
这次松懈也反应出在好意思国主导的出口护士下，中国科技企业探索各异化本事道路的合座趋势。从华为近期建议的韬（τ）定律将发展重点从晶体管微缩转向系统级数据传输、先进封装和三维集成，到各类拓荒初创企业在细分芯片边界寻找实用的制造替代决议，国产半导体产业正在通过多条旅途松懈本事封闭。
缔造于2017年的璞璘科技，创举东说念主葛海雄兵从纳米压印本事前驱、好意思国工程院院士周郁。2025年8月，该公司已委用中国首台半导体级纳米压印光刻拓荒。这次8英寸光芯片量产松懈，璀璨着国产纳米压印本事从实验室走向产业化讹诈的重要一步。
PL-AS 半导体级真空气压式纳米压印机
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